產品分類
Product CategoryCIF 推出的新一代科研型等離子清洗設備,合理的結構設計,優化的腔體尺寸,使得處理樣品更大,適用范圍更廣。CIF等離子清洗機F系列性能穩定,操作簡單方便,易維護。
CIF 透射電鏡(TEM)樣品桿清洗機采用遠程離子清洗源 設計,清洗快速高效, 低轟擊損傷, 同時可實現常規等離子清洗。透射電鏡樣品桿清洗機主要用于 TEM透射電鏡樣品桿的等離子體清洗和真空檢漏。
紫外臭氧清洗機(UVOzone Cleaner, UVO),是一種簡單,經濟,快速高效的材料表面清洗設備,能快速去除大多數無機基材(比如石英,硅片,金,鎳,鋁,砷化鎵,氧化鋁等)表面上的有機污染物。
CIF 推出 RIE 反應離子刻蝕機,采用 RIE 反應離子誘導激發方式,實現對材料表面各向異性的微結構刻蝕。特別適合于大學、科研院所,微電子、半導體企業實驗室進行介質刻蝕、硅刻蝕、金屬刻蝕等方面研究。使用成本低,性價比高,易維護,處理快速高效。RIE反應離子刻蝕機適用于所有的基材及復雜的幾何構形進行 RIE 反應離子刻蝕。
CIF推出全新一代 CPC-10系列實驗室型等離子體清洗設備, 改變傳統等離子體清洗設備設計理念。具有較大的腔體尺寸和有效樣 品處理面積, 使用成本低, 性價比高, 處理快速高效, 特別適合于大學, 科研院所和光電企業實驗室小批量中試生產。
CIF推出全新一代 CPC-G系列實驗室型等離子體清洗設備, 改變傳統等離子體清洗設備設計理念。CIF實驗室型等離子清洗機具有較大的腔體尺寸和有效樣 品處理面積, 使用成本低, 性價比高, 處理快速高效, 特別適合于大學, 科研院所和光電企業實驗室小批量中試生產。
CIF 推出的新一代科研型等離子清洗設備,合理的結構設計,優化的腔體尺寸,使得處理樣品更大,適用范圍更廣。 CIF實驗室型等離子清洗機CPC-F系列性能穩定,操作簡單方便,易維護。
電話
微信掃一掃